研究者
J-GLOBAL ID：200901013684209763
更新日: 2022年09月14日
小川 正毅
オガワ マサキ | Ogawa Masaki
研究分野 (4件)：
電子デバイス、電子機器
, 薄膜、表面界面物性
, 結晶工学
, 応用物性
研究キーワード (5件)：
固体の表面構造
, 電気物性:電子伝導
, 薄膜
, 結晶成長
, 固体デバイス
競争的資金等の研究課題 (2件)：
2004 - 2007 ULSI材料・プロセス
2004 - 2007 ULSI materials and processing
MISC (91件)：
Toshifumi Sago, Akiyoshi Seko, Mitsuo Sakashita, Akira Sakai, Masaki Ogawa, Shigeaki Zaima. Behavior of local charge-trapping sites in La2O3-Al2O3 composite films under constant voltage stress. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS. 2007. 46. 4B. 1879-1884
Daisuke Ikeno, Yukihiro Kaneko, Hiroki Kondo, Mitsuo Sakashita, Akira Sakai, Masaki Ogawa, Shigeaki Zaima. Composition dependence of work function in metal (Ni,Pt)-germanide gate electrodes. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS. 2007. 46. 4B. 1865-1869
Toshifumi Sago, Akiyoshi Seko, Mitsuo Sakashita, Akira Sakai, Masaki Ogawa, Shigeaki Zaima. Behavior of local charge-trapping sites in La2O3-Al2O3 composite films under constant voltage stress. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS. 2007. 46. 4B. 1879-1884
Daisuke Ikeno, Yukihiro Kaneko, Hiroki Kondo, Mitsuo Sakashita, Akira Sakai, Masaki Ogawa, Shigeaki Zaima. Composition dependence of work function in metal (Ni,Pt)-germanide gate electrodes. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS. 2007. 46. 4B. 1865-1869
Shotaro Takeuchi, Akira Sakai, Koji Yamamoto, Osamu Nakatsuka, Masaki Ogawa, Shigeaki Zaima. Growth and structure evaluation of strain-relaxed Ge1-xSnx buffer layers grown on various types of substrates. SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2007. 22. 1. S231-S235
もっと見る
書籍 (28件)：
Pt-germanideゲート電極の結晶構造及び電気的特性の評価
ゲートスタック研究会 -材料・プロセス・評価の物理- 2007
パルスレーザー蒸着法によるGe基板上へのPr酸化膜の作製とその構造及び電気的特性評価
ゲートスタック研究会 -材料・プロセス・評価の物理- 2007
Ge(001)表面の酸素エッチングおよび初期酸化過程の原子スケール評価
ゲートスタック研究会 -材料・プロセス・評価の物理- 2007
Conductive-AFMによるゲート絶縁膜劣化現象のナノスケール評価
半導体・集積回路技術 第70回シンポジウム 講演論文集 2006
La2O3-Al2O3複合膜中の局所電流リークの起源と酸素熱処理の効果
応用物理学会薄膜・表面物理分科会/シリコンテクノロジー分科会共催特別研究会研究報告 ゲートスタック研究会 -材料・プロセス・評価の物理-(第11回研究会) 2006
もっと見る
Works (7件)：
シリコンナノエレクトロニクスの新展開-ポストスケーリングテクノロジー-
2006 - 2009
3次元化学状態解析X線光電子分光装置
2005 - 2009
ひずみSOI基盤の転位挙動緩和機構と解析
2005 - 2006
ナノフォトダイオード用ゲルマニウム製薄膜技術の開発
2005 - 2006
超低消費電力CMOS用ゲルマニウム系薄膜形成技術の研究開発
2005 - 2005
もっと見る
学位 (1件)：
博士(工学) (大阪大学)
経歴 (1件)：
名古屋大学 エコトピア科学研究所 融合研究プロジェクト研究部門 エコトピア科学研究所 融合研究プロジェクト研究部門 教授
委員歴 (2件)：
応用物理学会 応用物理学会薄膜表面分科会幹事
応用物理学会 日本表面科学会評議委員
受賞 (4件)：
2005 - MNC2004 Award for Outstanding Paper
2005 - MNC2004 Award for Outstanding Paper
1986 - 科学技術庁第45回注目発明受賞(昭和61年4月:超格子の構造)
1979 - 渡辺記念研究奨励賞
所属学会 (1件)：
応用物理学会
※ J-GLOBALの研究者情報は、
researchmap
の登録情報に基づき表示しています。 登録・更新については、
こちら
をご覧ください。
前のページに戻る
TOP
BOTTOM
