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J-GLOBAL ID：200902271558169880   整理番号：09A1003832

常温動作ボトムアップ二重トンネル接合のトンネル抵抗値の分散

著者 (10件)： 加納伸也 (東京工大 大学院) ,  加納伸也 (JST-CREST) ,  東康男 (東京工大 大学院) ,  東康男 (JST-CREST) ,  金原正幸 (筑波大) ,  金原正幸 (JST-CREST) ,  寺西利治 (筑波大) ,  寺西利治 (JST-CREST) ,  真島豊 (東京工大 大学院) ,  真島豊 (JST-CREST)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 70th  号： 3  ページ： 1148  発行年： 2009年09月08日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *トンネル接合 ,  *金 ,  *ナノ粒子 ,  *自己組織系 ,  *単分子層 ,  *電気抵抗 ,  トンネル分光法 ,  電流電圧特性 ,  Coulombブロッケード ,  分散【variance】 ,  *自己集合単分子膜
準シソーラス用語： *自己組織化単分子層

分類 (1件)： その他の接合  (BM03088W)

タイトルに関連する用語 (4件)： 常温 ,  ボトムアップ ,  トンネル接合 ,  トンネル抵抗