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J-GLOBAL ID：200902292740664916   整理番号：09A0995189

放射光X線トポグラフィによるSGOIウェーハの歪み及び格子面傾斜揺らぎの2次元分布測定

著者 (7件)： 志村考功 (大阪大 大学院) ,  井上智之 (大阪大 大学院) ,  松宮拓也 (大阪大 大学院) ,  下川大輔 (大阪大 大学院) ,  細井卓治 (大阪大 大学院) ,  小椋厚志 (明治大 理工) ,  渡部平司 (大阪大 大学院)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 70th  号： 1  ページ： 377  発行年： 2009年09月08日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： SOI構造 ,  *ウエハ【IC】 ,  *ケイ素合金 ,  ゲルマニウム含有合金 ,  化合物半導体 ,  半導体薄膜 ,  シンクロトロン放射 ,  *X線トポグラフィー ,  格子歪
準シソーラス用語： *SGOI構造

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (8件)： 放射光 ,  X線トポグラフィ ,  SGOI ,  ウェーハ ,  歪み ,  揺らぎ ,  2次元 ,  分布