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J-GLOBAL ID：200902294031392360   整理番号：09A0420906

放射光X線トポグラフィによる歪みSiウェーハの歪み及び格子面傾斜揺らぎの2次元分布測定

著者 (6件)： 志村考功 (大阪大 大学院) ,  井上智之 (大阪大 大学院) ,  下川大輔 (大阪大 大学院) ,  細井卓治 (大阪大 大学院) ,  小椋厚志 (明治大 理工) ,  渡部平司 (大阪大 大学院)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 56th  号： 1  ページ： 432  発行年： 2009年03月30日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ウエハ【IC】 ,  *半導体材料 ,  *格子歪 ,  X線トポグラフィー ,  *結晶方位 ,  傾斜角 ,  ゆらぎ ,  歪解析 ,  *シリコンウエハ
準シソーラス用語： *珪素基板

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (7件)： 放射光 ,  X線トポグラフィ ,  歪み ,  Siウェーハ ,  揺らぎ ,  2次元 ,  分布