特許

J-GLOBAL ID：200903043201388135

ハイスループット合成システム

発明者： 遠藤 弥重太 ,  澤崎 達也 ,  小笠原 富夫
出願人/特許権者： 遠藤 弥重太 ,  澤崎 達也
代理人 (1件)： 庄司 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-281500
公開番号（公開出願番号）：特開2006-042601
出願日： 2003年07月29日
公開日（公表日）： 2006年02月16日
要約：

【課題】タンパク質やRNAなどの生体高分子のハイスループットな試験管内合成反応法のシステム技術を開発する。【課題を解決するための手段】 鋳型物質を原料にする合成系であって、以下の手段、その制御手段、又はその組合せを含むことを特徴とする無細胞系合成システム;1)鋳型物質、基質、及び反応溶液を接触させて合成反応系に導く。2)合成速度の略低下前後又は合成反応の略停止前後、又はそれらの途上に、反応系を合成反応系外におき溶液の希釈処理をする。3)希釈処理に続いて、濃縮処理を行う。4)反応系を合成反応系に戻す。又は1)鋳型物質、基質、及び反応溶液を接触させて合成反応に導く。2)合成速度の略低下前後、合成反応の略停止前後、又はそれらの途上に、反応系を合成反応系外におき溶液を濃縮処理する。3)濃縮処理に続いて希釈処理を行う。4)希釈された反応系を合成反応系に戻す。

請求項（抜粋）：

鋳型物質を原料にする合成系であって、以下の手段、その制御手段、又はその組合せを含むことを特徴とする無細胞系合成システム; 1)鋳型物質、基質、及び反応溶液を接触させて合成反応に導く。 2)合成速度の略低下前後、合成反応の略停止前後、又はそれらの途上に、反応溶液を希釈処理する。 3)希釈処理に続いて濃縮処理を行う。 4)濃縮された反応系によって合成反応をおこなう。 又は 1)鋳型物質、基質、及び反応溶液を接触させて合成反応に導く。 2)合成速度の略低下前後、合成反応の略停止前後、又はそれらの途上に、反応溶液を濃縮処理する。 3)濃縮処理に続いて希釈処理を行う。 4)希釈された反応系によって合成反応をおこなう。

IPC (3件)：

C12P 21/02 ,  C12M 1/36 ,  C12N 15/09

FI (3件)：

C12P21/02 C ,  C12M1/36 ,  C12N15/00 A

Fターム (25件)：

4B024AA20 ,  4B024BA80 ,  4B024CA01 ,  4B024CA11 ,  4B024CA12 ,  4B024HA08 ,  4B029AA27 ,  4B029BB15 ,  4B029BB20 ,  4B029CC01 ,  4B029DF01 ,  4B029DG06 ,  4B029DG08 ,  4B029GA02 ,  4B029GB02 ,  4B064AF27 ,  4B064AG01 ,  4B064CA21 ,  4B064CB30 ,  4B064CC06 ,  4B064CC09 ,  4B064CC15 ,  4B064CD16 ,  4B064CE06 ,  4B064DA20

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 無細胞タンパク質合成方法
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2001007356   出願人：遠藤弥重太
• 汎用性および高効率機能を備えた鋳型分子およびこれを利用する無細胞タンパク質合成手段
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2000007123   出願人：和研薬株式会社