プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：松山允之 , 池上徹真 , 須藤章
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-253796
公開番号（公開出願番号）：特開2009-082796
出願日： 2007年09月28日
公開日（公表日）： 2009年04月23日
要約：

【課題】プラズマの状態を制御して、プラズマを化学変化や化学結合に最適な状態にすること。【解決手段】プラズマを生成するプラズマ生成室と、プラズマの温度を制御するプラズマ温度制御部と、プラズマ生成室で生成されたプラズマを利用して被処理物を処理するプラズマ処理室と、を備える、プラズマ処理装置。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

プラズマを生成するプラズマ生成室と、プラズマの温度を制御するプラズマ温度制御部と、プラズマ生成室で生成されたプラズマを利用して被処理物を処理するプラズマ処理室と、を備える、プラズマ処理装置。

IPC (3件)：

B01J 19/08 , C01B 13/11 , H05H 1/24

FI (3件)：

B01J19/08 E , C01B13/11 A , H05H1/24

Fターム (17件)：

4G042CA01 , 4G042CB06 , 4G042CB24 , 4G042CC12 , 4G075AA03 , 4G075AA63 , 4G075BA05 , 4G075CA03 , 4G075CA54 , 4G075DA02 , 4G075EA02 , 4G075EB01 , 4G075EB43 , 4G075EE33 , 4G075FB02 , 4G075FB04 , 4G075FB06

引用特許：

出願人引用 (1件)

微細及び超微細の粉体の製造のための方法及び移行型アークプラズマシステム
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-566062 出願人：カナデイアン・エレクトロニク・パウダーズ・コーポレーシヨン

審査官引用 (8件)

特開昭52-011176
特開昭61-280384
ガス噴射による表面処理方法および表面処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-134467 出願人：株式会社小松製作所

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