特許

J-GLOBAL ID：200903075016701403

プラズマ発生装置及びプラズマ生成方法

発明者： 沖野 晃俊 ,  宮原 秀一 ,  永田 洋一
出願人/特許権者： 国立大学法人東京工業大学
代理人 (3件)： 松山 允之 ,  池上 徹真 ,  須藤 章
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-137727
公開番号（公開出願番号）：特開2009-289432
出願日： 2008年05月27日
公開日（公表日）： 2009年12月10日
要約：

【課題】安定で制御可能なプラズマを得ること。【解決手段】プラズマを生成するプラズマ生成部と、独立して制御可能な第1電力と第2電力をプラズマ生成部に付与する電源と、を備え、第1電力は、プラズマを始動する高電圧小電流であり、第2電力は、プラズマを維持する低電圧大電流である、プラズマ生成装置、及び、プラズマガスに高電圧小電流の第1電力を付与してプラズマガスを始動状態にし、プラズマガスの始動状態に低電圧大電流の第2電力を付与してプラズマ状態を維持する、プラズマ生成方法。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

プラズマを生成するプラズマ生成部と、 独立して制御可能な第1電力と第2電力をプラズマ生成部に付与する電源と、を備え、 第1電力は、プラズマを始動する高電圧小電流であり、第2電力は、プラズマを維持する低電圧大電流であり、第2電力は第1電力付与後に付与してある、プラズマ生成装置。

IPC (4件)：

H05H 1/24 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  B01J 19/08

FI (4件)：

H05H1/24 ,  C23C16/50 ,  H01L21/205 ,  B01J19/08 E

Fターム (24件)：

2G043CA02 ,  2G043DA05 ,  2G043EA08 ,  2G043GB12 ,  2G043MA13 ,  4G075AA24 ,  4G075AA27 ,  4G075AA30 ,  4G075AA37 ,  4G075BA05 ,  4G075BC02 ,  4G075BC04 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB43 ,  4G075EC01 ,  4G075EC21 ,  4G075FA01 ,  4G075FC15 ,  4K030FA01 ,  4K030KA30 ,  5F045AA08 ,  5F045EH11 ,  5F045EH19

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 発電システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-340624   出願人：畑中武史
• 成膜装置および成膜方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-000844   出願人：ソナック株式会社
• 電 源
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-268092   出願人：日本真空技術株式会社