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J-GLOBAL ID：201002267802185560   整理番号：10A1083263

アセタール残基を有するNoria誘導体の合成およびレジスト材料への応用

著者 (8件)： 神宮司真由美 (神奈川大 工) ,  工藤宏人 (神奈川大 工) ,  西久保忠臣 (神奈川大 工) ,  老泉博昭 (Selete) ,  井谷俊朗 (Selete) ,  田川精一 (大阪大 産科研) ,  山本洋揮 (大阪大 産科研) ,  岡本一将 (北大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 59  号： 2 Disk1  ページ： ROMBUNNO.2O11  発行年： 2010年09月01日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *フォトレジスト ,  *フォトリソグラフィー ,  高分解能 ,  高感度 ,  表面粗さ ,  *回路パターン形成 ,  熱分解 ,  分解温度 ,  *はしご状重合体 ,  *環状構造 ,  *オリゴマ ,  *大環状化合物 ,  *Noria
準シソーラス用語： *EUVリソグラフィー ,  ライン幅ラフネス

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： シクロヘキシルビニルエーテル

タイトルに関連する用語 (6件)： アセタール ,  残基 ,  Noria ,  誘導体 ,  レジスト材料 ,  応用