文献

J-GLOBAL ID：201002284343982721   整理番号：10A0546994

放射光X線トポグラフィによる歪みSiウェーハの歪み及び格子面傾斜揺らぎの2次元分布測定

著者 (6件)： 志村考功 (大阪大 大学院) ,  井上智之 (大阪大 大学院) ,  下川大輔 (大阪大 大学院) ,  細井卓治 (大阪大 大学院) ,  渡部平司 (大阪大 大学院) ,  小椋厚志 (明治大 理工)
資料名： PFシンポジウム要旨集
巻： 27th  ページ： 86  発行年： 2010年 
JST資料番号： L2365A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *ウエハ【IC】 ,  シンクロトロン放射 ,  *X線トポグラフィー ,  *格子歪 ,  SOI構造 ,  超薄膜 ,  CCDカメラ ,  ゆらぎ ,  *歪シリコン ,  *シリコンウエハ
準シソーラス用語： *Siウエハ ,  X線CCDカメラ

分類 (2件)： 半導体の格子欠陥  (BK12040Q) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (7件)： 放射光 ,  X線トポグラフィ ,  歪み ,  Siウェーハ ,  揺らぎ ,  2次元 ,  分布