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J-GLOBAL ID：201002284685802695   整理番号：10A0546886

斜入射X線回折測定によるカラムナー液晶構造体/シリカハイブリッド膜の配向評価

著者 (6件)： 原光生 (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  永野修作 (JST-さきがけ) ,  篠原佑也 (東大) ,  雨宮慶幸 (東大) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： PFシンポジウム要旨集
巻： 27th  ページ： 59  発行年： 2010年 
JST資料番号： L2365A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *分子配向 ,  多孔質体 ,  *ディスコチック液晶 ,  小角X線散乱 ,  二酸化ケイ素 ,  メソポーラスシリカ ,  垂直配向
準シソーラス用語： シリカ ,  *カラムナー液晶

分類 (1件)： その他の液晶  (BK03030H)

タイトルに関連する用語 (8件)： 斜入射 ,  X線回折 ,  カラムナー液晶 ,  構造体 ,  シリカ ,  ハイブリッド膜 ,  配向 ,  評価