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J-GLOBAL ID：201102240981995369   整理番号：11A0192657

プラズマCVDカーボン膜の堆積速度の基板配置位置依存性

著者 (15件)： 浦川達也 (九大) ,  野村卓矢 (九大) ,  松崎秀文 (九大) ,  山下大輔 (九大) ,  内田儀一郎 (九大) ,  古閑一憲 (九大) ,  古閑一憲 (JST-CREST) ,  白谷正治 (九大) ,  白谷正治 (JST-CREST) ,  節原裕一 (阪大 接合研) ,  節原裕一 (JST-CREST) ,  関根誠 (名大 院) ,  関根誠 (JST-CREST) ,  堀勝 (名大 院) ,  堀勝 (JST-CREST)
資料名： 応用物理学会九州支部学術講演会講演予稿集
巻： 36  ページ： 101  発行年： 2010年11月27日 
JST資料番号： L1487A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *プラズマCVD ,  *堆積速度 ,  依存性 ,  基板 ,  *薄膜成長 ,  炭素薄膜 ,  位置依存性

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (4件)： プラズマCVD ,  カーボン膜 ,  堆積速度 ,  位置依存性