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J-GLOBAL ID：201102249872178722   整理番号：11A0192658

異方性プラズマCVDで堆積したカーボン膜のエッチングレート

著者 (14件)： 山下大輔 (九大) ,  浦川達也 (九大) ,  野村卓矢 (九大) ,  内田儀一郎 (九大) ,  古閑一憲 (九大) ,  古閑一憲 (JST-CREST) ,  白谷正治 (九大) ,  白谷正治 (JST-CREST) ,  節原裕一 (阪大 接合研) ,  節原裕一 (JST-CREST) ,  関根誠 (名古屋大 工) ,  関根誠 (JST-CREST) ,  堀勝 (名古屋大 工) ,  堀勝 (JST-CREST)
資料名： 応用物理学会九州支部学術講演会講演予稿集
巻： 36  ページ： 102  発行年： 2010年11月27日 
JST資料番号： L1487A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *プラズマCVD ,  *加工速度 ,  *薄膜 ,  薄膜成長 ,  プラズマ ,  *炭素薄膜 ,  水素プラズマ ,  窒素プラズマ
準シソーラス用語： *エッチング速度

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (5件)： 異方性 ,  プラズマCVD ,  堆積 ,  カーボン膜 ,  エッチングレート