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J-GLOBAL ID：201102272231712615   整理番号：11A1492354

結晶珪素用のO₃に基づくALDにより蒸着した酸化アルミニウム薄膜

Aluminum Oxide Thin Films Deposited by O₃ Based ALD for Crystalline Silicon

著者 (19件)： LEE Hyunju (Meiji Univ.) ,  LEE Hyunju (JST-CREST) ,  SAWAMOTO Naomi (Meiji Univ.) ,  SAWAMOTO Naomi (JST-CREST) ,  TACHIBANA Tomihisa (Meiji Univ.) ,  TACHIBANA Tomihisa (JST-CREST) ,  IKENO Norihiro (Meiji Univ.) ,  IKENO Norihiro (JST-CREST) ,  ARAFUNE Koji (Univ. of Hyogo) ,  ARAFUNE Koji (JST-CREST) ,  YOSHIDA Haruhiko (Univ. of Hyogo) ,  YOSHIDA Haruhiko (JST-CREST) ,  SATOH Shin-ichi (Univ. of Hyogo) ,  SATOH Shin-ichi (JST-CREST) ,  MATSUMOTO Kazuhiro (Tokyo Electron Ltd.) ,  TAKAHASHI Kousuke (Tokyo Electron Ltd.) ,  CHIKYOW Toyohiro (National Inst. for Materials Sci. (NIMS)) ,  OGURA Atsushi (Meiji Univ.) ,  OGURA Atsushi (JST-CREST)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
巻： 72nd  ページ： ROMBUNNO.2A-ZH-3  発行年： 2011年08月16日 
JST資料番号： Y0055B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *酸化アルミニウム ,  化学蒸着 ,  *太陽電池 ,  オゾン ,  X線光電子分光法 ,  深さプロフィル ,  *不動態化 ,  不動態皮膜 ,  *シリコン太陽電池 ,  *改変 ,  化成皮膜
準シソーラス用語： *珪素太陽電池 ,  原子層堆積

分類 (1件)： 太陽電池  (NC03084O)

タイトルに関連する用語 (6件)： 結晶珪素 ,  O3 ,  ALD ,  蒸着 ,  酸化アルミニウム ,  薄膜