特許
J-GLOBAL ID:201103043225793543

プラズマを用いたサンプリング法およびサンプリング装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 中尾 俊輔 ,  伊藤 高英 ,  畑中 芳実 ,  大倉 奈緒子 ,  玉利 房枝 ,  鈴木 健之 ,  高橋 洋平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-298462
公開番号(公開出願番号):特開2011-137740
出願日: 2009年12月28日
公開日(公表日): 2011年07月14日
要約:
【課題】分析対象物を破壊することなく、試料を採取し、直接、分析装置に導入することができるとともに、分析精度を向上させることを可能とするプラズマを用いたサンプリング法およびサンプリング装置を提供すること。【解決手段】閉空間内に納められた分析対象物の表面にプラズマを放出し、その表層部を気相中に飛散させてサンプルガスとし、当該サンプルガスをガス流によって前記閉空間から導入手段を通して分析装置に導入することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
閉空間内に納められた分析対象物の表面にプラズマを放出し、その表層部を気相中に飛散させてサンプルガスとし、当該サンプルガスをガス流によって前記閉空間から導入手段を通して分析装置に導入することを特徴とするプラズマを用いたサンプリング法。
IPC (2件):
G01N 1/22 ,  G01N 1/00
FI (2件):
G01N1/22 Y ,  G01N1/00 101R
Fターム (9件):
2G052AC12 ,  2G052CA04 ,  2G052EB01 ,  2G052GA15 ,  2G052GA24 ,  2G052GA27 ,  2G052JA07 ,  2G052JA09 ,  2G052JA11
引用特許:
審査官引用 (4件)
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引用文献:
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