特許
J-GLOBAL ID：201103078975208985

包装容器内プラズマ処理方法およびその装置

発明者：
沖野 晃俊

沖野 晃俊 について

, 
宮原 秀一

宮原 秀一 について


出願人/特許権者：
国立大学法人東京工業大学

国立大学法人東京工業大学 について


代理人 (7件)： 中尾 俊輔 ,  伊藤 高英 ,  畑中 芳実 ,  大倉 奈緒子 ,  玉利 房枝 ,  鈴木 健之 ,  高橋 洋平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-271522
公開番号（公開出願番号）：特開2011-110326
出願日： 2009年11月30日
公開日（公表日）： 2011年06月09日
要約：
【課題】 処理対象物に満遍なく、確実にプラズマ処理を施すことができるとともに、プラズマ処理後もプラズマ処理の効果を長く保持することができ、さらに、コスト面に優れた包装容器内プラズマ処理方法およびその装置を提供すること。【解決手段】 包装容器4内に処理対象物6を入れるとともに、プラズマガスを封入した後、密閉するガス封入包装工程と、前記ガス封入包装工程終了後の前記包装容器4を大気圧下において離間配置された少なくとも一対の電極1A、1Bの中間位置に配置した後、前記一対の電極1A、1B間に電圧を印加して前記包装容器4内にプラズマ12を発生させる第2プラズマ処理工程とを有することを特徴とする。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
包装容器内に処理対象物を入れ、密閉する包装工程と、前記包装工程後の前記包装容器を大気圧下において離間配置された少なくとも一対の電極の中間位置に配置した後、前記一対の電極間に電圧を印加して前記包装容器内にプラズマを発生させる第1プラズマ処理工程とを有することを特徴とする包装容器内プラズマ処理方法。
IPC (3件)：
A61L 2/14 ,  A61L 2/24 ,  H05H 1/46
FI (3件)：
A61L2/14 ,  A61L2/24 ,  H05H1/46 M
Fターム (15件)：
4B021LA01 ,  4B021LP10 ,  4B021MC01 ,  4B021MK08 ,  4B021MK13 ,  4B021MK20 ,  4B021MP10 ,  4B021MQ02 ,  4C058AA02 ,  4C058AA12 ,  4C058AA21 ,  4C058BB06 ,  4C058KK06 ,  4C058KK14 ,  4C058KK22
引用特許：
審査官引用 (3件)

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