特許

J-GLOBAL ID：201103087203268930

プラズマ装置

発明者： 沖野 晃俊 ,  宮原 秀一 ,  市川 正紀 ,  佐々木 良太 ,  山崎 正太郎 ,  平位 英之
出願人/特許権者： 国立大学法人東京工業大学
代理人 (6件)： 中尾 俊輔 ,  伊藤 高英 ,  畑中 芳実 ,  大倉 奈緒子 ,  玉利 房枝 ,  鈴木 健之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-127711
公開番号（公開出願番号）：特開2011-253754
出願日： 2010年06月03日
公開日（公表日）： 2011年12月15日
要約：

【課題】様々な種類のプラズマガスを用いて所望の形状のプラズマを安定に生成することができ、さらに、様々な表面処理に用いることができるプラズマ装置を提供する。【解決手段】噴出口を介して外部と連通されたプラズマ発生室と、前記プラズマ発生室内にプラズマを発生可能な少なくとも1つのプラズマ源6とを備え、前記プラズマ発生室内に発生させたプラズマを前記噴出口から噴出させるプラズマ装置であって、プラズマ源6は、放電部13を形成する間隙部を以て対向配置された一対の電極9、10を備え、放電部13には、放電方向Bと角度を持った気流方向Cのプラズマガスが供給されるように形成される。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

噴出口を介して外部と連通されたプラズマ発生室と、前記プラズマ発生室内にプラズマを発生可能な少なくとも1つのプラズマ源とを備え、前記プラズマ発生室内に発生させたプラズマを前記噴出口から噴出させるプラズマ装置であって、 前記プラズマ源は、放電部を形成する間隙部を以て対向配置された一対の電極を備え、前記放電部には、放電方向と角度を持った気流方向のプラズマガスが供給されるように形成されていることを特徴とするプラズマ装置。

IPC (1件)：

H05H 1/24

FI (1件)：

H05H1/24

引用特許：

審査官引用 (2件)

• プラズマノズル保護のための方法及び回路
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-135514   出願人：ザリンカーンエレクトリックカンパニー
• プラズマ表面処理装置および表面処理筒型基材の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-323139   出願人：三井化学株式会社