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J-GLOBAL ID：201202266353905381   整理番号：12A1437093

プラズマ異方性CVDによる窒化レジスト上への硬質カーボン膜の製膜

著者 (9件)： 鳥越隆平 (九大 シス情) ,  浦川達也 (九大 シス情) ,  山下大輔 (九大 シス情) ,  内田儀一郎 (九大 シス情) ,  古閑一憲 (九大 シス情) ,  白谷正治 (九大 シス情) ,  節原裕一 (阪大 接合研) ,  関根誠 (名大 院) ,  堀勝 (名大 院)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
巻： 73rd  ページ： ROMBUNNO.13A-E2-11  発行年： 2012年08月27日 
JST資料番号： Y0055B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *プラズマCVD ,  *薄膜成長 ,  フォトリソグラフィー ,  アルゴン ,  水素 ,  混合気体 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  レジスト ,  X線光電子スペクトル ,  *フォトレジスト ,  炭素 ,  アルキルベンゼン ,  *EUVレジスト ,  *ナノパターン
準シソーラス用語： EUVリソグラフィー ,  PMMA

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

物質索引 (1件)： トルエン

タイトルに関連する用語 (7件)： プラズマ ,  異方性 ,  CVD ,  窒化 ,  レジスト ,  硬質カーボン膜 ,  製膜