被処理物の処理方法及び処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：中尾俊輔 , 伊藤高英 , 畑中芳実 , 大倉奈緒子 , 玉利房枝 , 鈴木健之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-208568
公開番号（公開出願番号）：特開2012-061434
出願日： 2010年09月16日
公開日（公表日）： 2012年03月29日
要約：

【課題】特定の生成物や副次生成物の生成量を低減可能とされた被処理物の処理方法及び処理装置、さらには、特定の生成物が生成するように制御可能とされた被処理物の処理方法及び処理装置を提供すること。【解決手段】本発明の被処理物の処理方法は、温度変化することにより成分状態が変化する気体を含む被処理物が活性化状態にある時に、前記被処理物が特定の成分に変化させられる温度領域以下に前記被処理物を急冷することによって、前記特定の成分が存在する温度領域の保持時間を短くして前記被処理物の成分状態を変化させる処理を施すことを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

温度変化することにより成分状態が変化する気体を含む被処理物が活性化状態にある時に、前記被処理物が特定の成分に変化させられる温度領域以下に前記被処理物を急冷することによって、前記特定の成分が存在する温度領域の保持時間を短くして前記被処理物の成分状態を変化させる処理を施すことを特徴とする被処理物の処理方法。

IPC (4件)：

B01J 19/08 , B01J 19/00 , B01D 53/56 , B01D 53/74

FI (4件)：

B01J19/08 E , B01J19/00 301A , B01J19/00 301B , B01D53/34 129C

Fターム (22件)：

4D002AA12 , 4D002BA02 , 4D002BA07 , 4D002BA12 , 4D002BA13 , 4D002CA01 , 4D002CA03 , 4D002EA02 , 4D002EA05 , 4G075AA03 , 4G075AA24 , 4G075AA37 , 4G075AA63 , 4G075BA05 , 4G075BC04 , 4G075CA02 , 4G075CA03 , 4G075CA48 , 4G075DA02 , 4G075EA05 , 4G075EB43 , 4G075EC01

引用特許：

審査官引用 (9件)

プラズマスクラバー
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-247249 出願人：韓国機械研究院
特開平3-089920
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-253796 出願人：国立大学法人東京工業大学

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