特許
J-GLOBAL ID:201303026372752529

マルチガスプラズマジェット装置

発明者: ,  ,  , 
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊藤 温
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-097163
公開番号(公開出願番号):特開2013-225421
出願日: 2012年04月20日
公開日(公表日): 2013年10月31日
要約:
【課題】 大気圧下で、電極からのコンタミネーションなく、低温プラズマガスを発生させ、局所的に当該ガスを照射させることが可能である前提下、今までプラズマ化不可能だったガスを安定的にプラズマ化する事が可能なマルチガスプラズマジェット装置の提供。【解決手段】 対象ガスが導入される対象ガス導入口と、当該対象ガスから生起したガスプラズマを外部に噴出するプラズマ噴出口と、を有する絶縁管、少なくとも一の帯状電極が、絶縁管外周に沿設又は絶縁管内に封設されており、且つ、帯状電極の長軸が対象ガス導入口からプラズマ噴出口への方向に配されている電極部、及び時間と共に変化する電圧を電極部に印加し、絶縁管内に大気圧下でグロー放電を生起させる電源供給部を有する、マルチガスプラズマジェット発生装置。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
対象ガスが導入される対象ガス導入口と、当該対象ガスから生起したガスプラズマを外部に噴出するプラズマ噴出口と、を有する絶縁管、 少なくとも一の帯状電極が、絶縁管外周に沿設又は絶縁管内に封設されており、且つ、帯状電極の長軸が対象ガス導入口からプラズマ噴出口への方向に配されている電極部、及び 時間と共に変化する電圧を電極部に印加し、絶縁管内に大気圧下でグロー放電を生起させる電源供給部 を有する、マルチガスプラズマジェット発生装置。
IPC (2件):
H05H 1/30 ,  C23C 16/50
FI (2件):
H05H1/30 ,  C23C16/50
Fターム (4件):
4K030FA03 ,  4K030JA09 ,  4K030KA15 ,  4K030KA30
引用特許:
審査官引用 (3件)

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