プラズマを用いたサンプリング法およびサンプリング装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：中尾俊輔 , 伊藤高英 , 畑中芳実 , 大倉奈緒子 , 玉利房枝 , 鈴木健之 , 高橋洋平
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-298462
公開番号（公開出願番号）：特開2011-137740
特許番号：特許第5581477号
出願日： 2009年12月28日
公開日（公表日）： 2011年07月14日
請求項（抜粋）：

【請求項1】サンプリング室の開放部を、分析対象物の表面もしくは分析対象物が載置された載置台の表面に対して密着させることによって形成される大気圧近傍の閉空間内に、全体または一部が納められた分析対象物の表面に前記分析対象物が放電損傷することのないプラズマ温度が低温のプラズマを放出し、その表層部を蒸気または粒子として気相中に飛散させてサンプルガスとし、当該サンプルガスをプラズマの放出によって生じるガス流によって前記閉空間から導入手段を通して分析装置に導入することを特徴とするプラズマを用いたサンプリング法。

IPC (3件)：