Chen J. について
Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, Yokohama 226-8502, Japan について
Kawanago T. について
Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, Yokohama 226-8502, Japan について
Wakabayashi H. について
Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, Yokohama 226-8502, Japan について
Tsutsui K. について
Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, Yokohama 226-8502, Japan について
Iwai H. について
Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, Yokohama 226-8502, Japan について
Nohata D. について
Tokyo City University, Tokyo 158-8557, Japan について
Nohira H. について
Tokyo City University, Tokyo 158-8557, Japan について
Kakushima K. について
Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, Yokohama 226-8502, Japan について
Microelectronics Reliability について
酸化ランタン について
アルミニウム化合物 について
ガリウム化合物 について
窒化物 について
窒化ガリウム について
HEMT について
ゲート【半導体】 について
絶縁膜 について
電圧 について
焼なまし について
温度依存性 について
多結晶 について
誘電体薄膜 について
容量 について
誘電率 について
漏れ電流 について
回路特性 について
電流電圧特性 について
Schottky障壁 について
ゲート絶縁膜 について
閾値電圧 について
高k誘電体 について
窒化アルミニウムガリウム について
AlGaN について
ゲート容量 について
ノーマリーオフ について
Schottkyゲート電界効果トランジスタ について
AlGaN/GaN HEMT について
Gate dielectrics について
Threshold voltage について
Power devices について
Lanthanum oxide について
トランジスタ について
AlGaN について
GaN について
HEMT について
La2O3 について
ゲート絶縁膜 について