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J-GLOBAL ID:201602210713728374   整理番号:16A1347110

AlGaN/GaN HEMT用La2O3ゲート絶縁膜

La2O3 gate dielectrics for AlGaN/GaN HEMT
著者 (8件):
資料名:
巻: 60  ページ: 16-19  発行年: 2016年05月 
JST資料番号: C0530A  ISSN: 0026-2714  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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WゲートAlGaN/GaN高電子移動度トランジスタ(HEMT)用のLa2O3ゲート絶縁膜のアニール温度依存電気的特性の特徴付けを行った。しきい値電圧(Vth)は,ショットキーHEMTのそれを超えるより高い温度のアニールにより正の方向にシフトすることが判明し,おそらくLa2O3とAlGaN層間の界面における負の固定電荷の存在に起因すると考えられる。500°C以上の高温アニールで,La2O3膜の多結晶化により高誘電率(k値)27を達成し,これはゲート容量の低減を制限するのに有用である。La2O3ゲート絶縁膜の高いk値および界面における負電荷の存在は,低ゲートリークおよびノーマリオフ動作を有するAlGaN/GaN HEMTにとって魅力的である。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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トランジスタ 
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