抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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センシングプレートとよぶ半導体プレート表面の電気化学ポテンシャル分布を計測するシステム,テラヘルツ波ケミカル顕微鏡(TCM)の開発を行ってきた。この顕微鏡では,センシングプレート表面上で様々な化学反応を進行させる。この時のセンシングプレート表面の電気化学ポテンシャル変化を,センシングプレートから放射するテラヘルツ波の強度として計測する。また,テラヘルツ波の放射強度分布を計測することで,センシングプレート上の電気化学ポテンシャル分布を可視化することができる。これまでに生体関連物質の反応,溶液中イオンの反応および水素触媒金属の反応など様々な化学反応を可視化してきた。本稿では,TCMの計測原理一特徴について詳細に述べた後,これまで実施してきた計測の一部について結果を照会する。テラヘルツ波ケミカル顕微鏡の原理,テラヘルツ波ケミカル顕微鏡システム,テラヘルツ波ケミカル顕微鏡の計測例などについて解説した。