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J-GLOBAL ID：201602282587215573   整理番号：16A0929840

HfO₂基強誘電体の結晶構造と特性の熱処理温度依存性

著者 (8件)： 三村和仙 (東京工大) ,  清水荘雄 (東京工大) ,  内田寛 (上智大 理工) ,  木口賢紀 (東北大 金属材料研) ,  赤間章裕 (東北大 金属材料研) ,  今野豊彦 (東北大 金属材料研) ,  坂田修身 (NIMS) ,  舟窪浩 (東京工大)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 77th  ページ： ROMBUNNO.14a-A23-6  発行年： 2016年09月01日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化ハフニウム ,  *強誘電体 ,  *結晶構造 ,  温度依存性 ,  *熱処理 ,  単斜晶系 ,  斜方晶系 ,  ヒステリシス ,  誘電体薄膜 ,  酸化イットリウム ,  パルスレーザ蒸着

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B)

タイトルに関連する用語 (5件)： HfO2 ,  強誘電体 ,  結晶構造 ,  熱処理温度 ,  依存性