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J-GLOBAL ID：201702236124987958   整理番号：17A1301110

加湿アニール法を用いたpoly(N-dodecyl acrylamide)-b-poly(ethylene glycol)薄膜におけるナノ相分離構造の構築

著者 (5件)： 松永康平 (山形大 大学院) ,  松井淳 (山形大 理) ,  山本俊介 (東北大 多元物質科研) ,  三ツ石方也 (東北大 多元物質科研) ,  永野修作 (名大 VBL)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 66  号： 2  ページ： ROMBUNNO.3Z11  発行年： 2017年09月06日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： リビングラジカル重合 ,  両親媒性高分子 ,  *ジブロック共重合体 ,  ポリエチレンオキシド ,  ポリアクリルアミド ,  *高分子薄膜 ,  加湿 ,  熱処理 ,  ミクロ相分離 ,  *ナノ構造 ,  ラメラ ,  X線回折 ,  小角X線散乱 ,  原子間力顕微鏡 ,  顕微鏡観察 ,  長範囲規則度 ,  自己組織化 ,  パターン形成 ,  画像 ,  ナノ相分離 ,  可逆的付加-フラグメンテーション連鎖移動重合
準シソーラス用語： RAFT重合 ,  ドットパターン

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： N-ドデシルアクリルアミド

タイトルに関連する用語 (5件)： 加湿 ,  アニール ,  薄膜 ,  ナノ相分離 ,  構築