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J-GLOBAL ID：201702247346325222   整理番号：17A1139804

再沈法によるP3HTナノ粒子の調製とn型有機半導体との複合膜の形成

著者 (7件)： 末次輝太 (名大 院) ,  原光生 (名大 院) ,  永野修作 (名大 VBL) ,  志藤慶治 (山形大 大学院) ,  佐藤駿実 (山形大 大学院) ,  増原陽人 (山形大 大学院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 78th  ページ： ROMBUNNO.6p-C11-14  発行年： 2017年08月25日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *沈殿 ,  *ポリヘキシルチオフェン ,  *ナノ粒子 ,  *有機半導体 ,  *複合膜 ,  紫外可視吸収スペクトル ,  N型半導体 ,  *フラーレン ,  ナノ複合材料 ,  PCBM ,  再沈殿
準シソーラス用語： 再沈 ,  P3HT【重合体】 ,  UV-Vis吸収スペクトル

分類 (2件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

タイトルに関連する用語 (6件)： 再沈 ,  P3HT ,  ナノ粒子 ,  調製 ,  有機半導体 ,  複合膜