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J-GLOBAL ID：201702267864522703   整理番号：17A0549933

高速AFMを用いた還元抗体のCdSe量子ドット表面修飾過程の動的評価

著者 (9件)： 宇高光 (埼玉大 大学院) ,  馬越貴之 (大阪大) ,  内橋貴之 (金沢大 バイオAFM-RFC) ,  内橋貴之 (金沢大 理工) ,  内橋貴之 (JST-CREST) ,  安藤敏夫 (金沢大 バイオAFM-RFC) ,  安藤敏夫 (JST-CREST) ,  福田武司 (埼玉大 大学院) ,  鈴木美穂 (埼玉大 大学院)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 64th  ページ： ROMBUNNO.16a-P2-3  発行年： 2017年03月01日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *原子間力顕微鏡 ,...
準シソーラス用語： *AFM【顕微鏡】 ,...

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分類 (1件)： 生物物理的研究法  (EA03020V)

物質索引 (3件)： 1,6-ヘキサンジアミン ,  (3-アミノプロピル)トリエトキシシラン ,  トリス(2-カルボキシエチル)ホスフィン

タイトルに関連する用語 (7件)： AFM ,  還元 ,  抗体 ,  CdSe量子ドット ,  表面修飾 ,  過程 ,  評価