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J-GLOBAL ID：201702275535380060   整理番号：17A1140775

Y₂O₃-HfO₂強誘電体の温度安定性

著者 (8件)： 三村和仙 (東京工大) ,  清水荘雄 (東京工大) ,  木口賢紀 (東北大 金属材料研) ,  赤間章裕 (東北大 金属材料研) ,  今野豊彦 (東北大 金属材料研) ,  勝矢良雄 (NIMS) ,  坂田修身 (NIMS) ,  舟窪浩 (東京工大)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 78th  ページ： ROMBUNNO.7p-A204-5  発行年： 2017年08月25日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化イットリウム ,  *酸化ハフニウム ,  *誘電体薄膜 ,  *安定性 ,  エピタクシー ,  X線回折 ,  パルスレーザ蒸着 ,  斜方晶系 ,  正方晶系 ,  転移温度 ,  *温度安定性 ,  *強誘電体薄膜
準シソーラス用語： *二酸化ハフニウム ,  *強誘電体膜 ,  相転移温度

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B)

タイトルに関連する用語 (4件)： Y2O3 ,  HfO2 ,  強誘電体 ,  温度安定性