ラジカル機能液の製造方法およびラジカル機能液を用いた浄化方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (4件)：中尾俊輔 , 伊藤高英 , 大倉奈緒子 , 前野房枝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-086809
公開番号（公開出願番号）：特開2016-203082
出願日： 2015年04月21日
公開日（公表日）： 2016年12月08日
要約：

【課題】本発明においては、洗浄、殺菌・消毒効果の高いラジカル機能液の製造方法を提供するとともに、当該ラジカル機能液の製造方法を処理対象物の洗浄工程に適用したラジカル機能液を用いた浄化方法を提供することを目的とする。【解決手段】少なくとも1種類のガス状のプラズマを含む2種類以上のガスを、溶媒Wに対して吹き込むことにより、少なくとも前記プラズマ中のラジカルを前記溶媒Wに対して溶解させてラジカル機能液とすることを特徴とするラジカル機能液の製造方法およびこのラジカル機能液を用いた浄化方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

少なくとも1種類のガス状のプラズマを含む2種類以上のガスを、溶媒に対して吹き込むことにより、少なくとも前記プラズマ中のラジカルを前記溶媒に対して溶解させてラジカル機能液とすることを特徴とするラジカル機能液の製造方法。

IPC (9件)：

C02F 1/68 , B01F 1/00 , H05H 1/24 , C02F 1/24 , C02F 1/34 , B01J 19/08 , A61L 2/18 , C02F 1/50 , B08B 3/08

FI (17件)：

C02F1/68 540Z , B01F1/00 A , H05H1/24 , C02F1/24 B , C02F1/34 , B01J19/08 E , A61L2/18 , C02F1/68 510A , C02F1/68 510C , C02F1/68 510Z , C02F1/68 520B , C02F1/68 520C , C02F1/68 530A , C02F1/50 531Z , C02F1/50 540B , C02F1/50 550D , B08B3/08 Z

Fターム (40件)：

2G084AA19 , 2G084AA25 , 2G084BB12 , 2G084CC13 , 2G084CC32 , 2G084CC34 , 2G084CC35 , 2G084DD40 , 2G084DD66 , 2G084DD67 , 2G084FF14 , 3B201AA46 , 3B201AB01 , 3B201BB01 , 3B201BB38 , 3B201BB89 , 3B201BB92 , 4C058AA02 , 4C058AA06 , 4C058AA12 , 4C058AA21 , 4C058AA28 , 4C058BB07 , 4C058JJ06 , 4D037AA01 , 4D037AA02 , 4D037AA03 , 4D037AB02 , 4D037BA01 , 4D037BA04 , 4D037BA26 , 4G035AA01 , 4G035AE13 , 4G075AA14 , 4G075AA15 , 4G075BB03 , 4G075BD27 , 4G075CA47 , 4G075DA02 , 4G075EB41

引用特許：

審査官引用 (6件)

プラズマ発生装置、ラジカル生成方法および洗浄浄化装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-330473 出願人：シャープ株式会社
便器洗浄水生成装置及び便器洗浄システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-266755 出願人：東陶機器株式会社
プラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-024932 出願人：パナソニック株式会社

全件表示

前のページに戻る