特許
J-GLOBAL ID:201503013956283776

ラジカル機能液およびその製造方法並びにラジカル機能液の使用方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 中尾 俊輔 ,  伊藤 高英 ,  畑中 芳実 ,  大倉 奈緒子 ,  玉利 房枝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-235639
公開番号(公開出願番号):特開2015-093864
出願日: 2013年11月14日
公開日(公表日): 2015年05月18日
要約:
【課題】プラズマガス中のラジカルを溶媒に溶解させて、大気中のラジカルの活性の寿命より長く、かつ、そのラジカルの活性が所望の時間で失われるようにコントロールしたラジカル機能液の提供およびこのラジカル機能液の製造方法、並びに、このラジカル機能液の使用方法を提供することを目的とする。【解決手段】所定時間で機能液としての機能を失うようにプラズマガスに起因するラジカルを溶媒に溶解した溶液であることを特徴とするラジカル機能液およびこの製造方法、並びにこのラジカル機能液の使用方法。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
所定時間で機能液としての機能を失うようにプラズマガスに起因するラジカルを溶媒に溶解した溶液であることを特徴とするラジカル機能液。
IPC (5件):
A01N 59/00 ,  H05H 1/24 ,  A61L 9/14 ,  A01P 3/00 ,  A01N 25/02
FI (5件):
A01N59/00 Z ,  H05H1/24 ,  A61L9/14 ,  A01P3/00 ,  A01N25/02
Fターム (13件):
4C080AA07 ,  4C080BB05 ,  4C080HH03 ,  4C080JJ01 ,  4C080KK06 ,  4C080LL02 ,  4C080MM01 ,  4C080QQ03 ,  4H011AA02 ,  4H011BB18 ,  4H011DA13 ,  4H011DD07 ,  4H011DG05
引用特許:
審査官引用 (4件)
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