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J-GLOBAL ID：201802210314767155   整理番号：18A1700424

化学機械研磨によるMEMS X線光学系の反射率の改善

著者 (12件)： 藤谷麻衣子 (首都大) ,  江副祐一郎 (首都大) ,  石川久美 (JAXA 宇宙科研) ,  福島碧都 (首都大) ,  沼澤正樹 (首都大) ,  伊師大貴 (首都大) ,  大坪亮太 (首都大) ,  鈴木光 (首都大) ,  永利光 (首都大) ,  湯浅辰哉 (首都大) ,  大橋隆哉 (首都大) ,  満田和久 (JAXA 宇宙科研)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 79th  ページ： ROMBUNNO.21a-235-3  発行年： 2018年09月05日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *化学機械研磨 ,  光学系 ,  *反射率 ,  MEMS ,  *X線望遠鏡 ,  *RIE【エッチング】 ,  *反射鏡 ,  化学蒸着 ,  結像 ,  焼なまし ,  ばり ,  圧痕 ,  X線光学系 ,  *X線反射率 ,  *X線ミラー ,  *機械工作
準シソーラス用語： *DRIE【エッチング】 ,  *X線反射鏡 ,  原子層堆積 ,  Wolterミラー ,  窪み

分類 (1件)： X線技術  (BA02060D)

タイトルに関連する用語 (4件)： 化学機械研磨 ,  MEMS ,  X線光学系 ,  反射率