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J-GLOBAL ID：201902217702994783   整理番号：19A1616987

光電子ホログラフィー法によるシリコン中に高濃度ドープされた活性および不活性な不純物原子の三次元原子配列構造の観測

Observation of three dimensional atomic arrangements of active and inactive impurities heavy doped in silicon by using photoelectron holography method

著者 (12件)： 筒井一生 (東京工大) ,  松下智裕 (高輝度光科学研究セ) ,  名取鼓太郎 (東京工大) ,  小川達博 (東京工大) ,  室隆桂之 (高輝度光科学研究セ) ,  森川良忠 (大阪大) ,  星井拓也 (東京工大) ,  角嶋邦之 (東京工大) ,  若林整 (東京工大) ,  林好一 (名古屋工大) ,  松井文彦 (分子科学研) ,  木下豊彦 (高輝度光科学研究セ)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 119  号： 96(SDM2019 25-35)  ページ： 23-27  発行年： 2019年06月14日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 光電子ホログラフィー法と第一原理計算を組み合わせて,Si中にドープしたAsの三次元原子配列構造を明らかにした。Asは,Si結晶格子を単独で置換して電気的に活性化した構造,As_nV(n=2~4)と呼ばれているクラスター構造および局所的に秩序性のない構造でいずれも電気的に不活性な状態の三種類の構造で共存していることがわかった。(著者抄録)

シソーラス用語： *ホログラフィー ,  ケイ素 ,  ドーピング ,  *原子 ,  *不純物 ,  *配列 ,  計算 ,  結晶格子 ,  活性化 ,  ヒ素 ,  構造 ,  *原子配列 ,  第一原理計算 ,  *不純物原子
準シソーラス用語： クラスター構造 ,  *光電子ホログラフィー

分類 (1件)： 半導体の格子欠陥  (BK12040Q)

引用文献 (11件)：

• K. Tsutsui, T. Matsuda, M. Watanabe, C-G. Jin, Y. Sasaki, B. Mizuno, E. Ikenaga, K. Kakushima, P. Ahmet, T. Maruizumi, H. Nohira, T. Hattori, and H. Iwai, Activated boron and its concentration profiles in heavily doped Si studied by soft x-ray photoelectron spectroscopy and Hall measurements, J. Appl. Phys., vo.104, 093709, Nov. 2008.
• M. V. Kuznetsov, L. V. Yashina, J. Sánchez-Barriga, I. I. Ogorodnikov, A. S. Vorokh, A. A. Volykhov, R. J. Koch, V. S. Neudachina, M. E. Tamm, A. P. Sirotina, A. Yu. Varykhalov, G. Springholz, G. Bauer, J. D. Riley, and O. Rader, Atomic structure of Bi₂Se₃ and Bi₂Te₃(111) surfaces probed by photoelectron diffraction and holography, Phys. Rev. B, vo.91, 085402, Feb. 2015.
• S. Roth, F. Matsui, T. Greber, and J. Osterwalder, Chemical Vapor Deposition and Characterization of Aligned and Incommensurate Graphene/Hexagonal Boron Nitride Heterostack on Cu(111), Nano Lett., vol.13, pp.2668-2675, May 2013.
• 大門寛,応用物理, vol.85, no.1, pp.21-27, Jan. 2016.
• 大門寛,佐々木裕次(監修),機能構造科学入門-3D活性サイトと物質デザイン,丸善,2016.

タイトルに関連する用語 (9件)： 光電子ホログラフィー ,  シリコン ,  高濃度 ,  ドープ ,  活性 ,  不活性 ,  不純物原子 ,  原子配列 ,  観測