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J-GLOBAL ID：201902242456969973   整理番号：19A1374993

光電子分光ホログラフィーによるAsドープSi中のドーパント複数サイトの原子配列イメージング

著者 (11件)： 筒井一生 (東京工大) ,  松下智裕 (高輝度光科学研究セ) ,  名取鼓太郎 (東京工大) ,  室隆桂之 (高輝度光科学研究セ) ,  森川良忠 (大阪大) ,  星井拓也 (東京工大) ,  角嶋邦之 (東京工大) ,  若林整 (東京工大) ,  林好一 (名古屋工大) ,  松井文彦 (岡崎国立共同研究機構 分子科研) ,  木下豊彦 (高輝度光科学研究セ)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 66th  ページ： ROMBUNNO.10p-S221-3  発行年： 2019年02月25日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 半導体への不純物ドーピングの技術的課題のひとつに、ドーパントの高濃度活性化がある。ドーパント原子が単独で結晶格子サイトを置換することで活性化するのに対し、クラスター化などにより異なるサイト占有や原子配置をとると不活性になると考えられている。...【本文一部表示】

シソーラス用語： *ホログラフィー ,  *ドーパント ,  活性化 ,  *結晶格子 ,  *置換 ,  *クラスタ化 ,  *光電子 ,  散乱 ,  干渉 ,  *非晶質 ,  *化学シフト ,  *Hall効果 ,  *原子配列 ,  *サイト占有 ,  *SPring-8 ,  第一原理計算 ,  *改変
準シソーラス用語： *光電子分光 ,  *Si ,  イメージング ,  原子配置 ,  *方位依存性 ,  アニール ,  *クラスター構造

分類 (2件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  電子分光スペクトル  (BM09060K)

タイトルに関連する用語 (7件)： 光電子分光 ,  ホログラフィー ,  ドープ ,  Si ,  ドーパント ,  原子 ,  配列イメージング