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J-GLOBAL ID：202002224172159670   整理番号：20A2052213

WolterIII型Advanced KBミラーを用いたX線自由電子レーザーsub-10nm集光システムの開発(第3報)-差分成膜によるX線ミラーの高精度形状修正およびSPring-8における性能評価-

著者 (13件)： 井上陽登 (大阪大 大学院工学研究科) ,  松山智至 (大阪大 大学院工学研究科) ,  山田純平 (理研 播磨研) ,  中村南美 (大阪大 大学院工学研究科) ,  田中優人 (大阪大 大学院工学研究科) ,  大坂泰斗 (理研 播磨研) ,  湯本博勝 (高輝度光科学研究セ) ,  小山貴久 (高輝度光科学研究セ) ,  大橋治彦 (高輝度光科学研究セ) ,  矢橋牧名 (理研 播磨研) ,  矢橋牧名 (高輝度光科学研究セ) ,  石川哲也 (理研 播磨研) ,  山内和人 (大阪大 大学院工学研究科)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集(CD-ROM)  (精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集(CD-ROM))
巻： 2020  号： 秋季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.D0402  発行年： 2020年08月20日 
JST資料番号： Y0914B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： X線自由電子レーザーは超高ピーク強度を有しており,非線形X線光学現象の開拓に向けた集光技術の発展が望まれる.中でも,高いスループットを有するX線集光ミラーが有望であるが,求められる形状精度が1nm程と非常に厳しい.我々は,垂直方向,水平方向それぞれを集光する2組のX線ミラーの表面形状を,X線格子干渉計と差分成膜を用いることにより,PV-1nmの精度で修正することに成功した.(著者抄録)

シソーラス用語： *X線自由電子レーザ ,  非線形光学 ,  光学 ,  反射鏡 ,  構成 ,  スループット ,  *集光 ,  形状精度 ,  形態 ,  干渉計 ,  強度 ,  X線レーザ ,  超短パルスレーザ ,  *X線ミラー ,  X線光学 ,  ピーク強度 ,  表面形状 ,  薄膜形成
準シソーラス用語： Wolterミラー ,  成膜

分類 (3件)： X線技術  (BA02060D) ,  その他のレーザ  (BD04090H) ,  その他の光デバイス  (BD06060O)

引用文献 (8件)：

• H. Mimura et al., Nat. Commun., 5, 3539 (2014)
• R. Kodama et al., Opt. Lett., 21, (1996) 1321
• J. Yamada, et al. Opt. Express, 27, 3429 (2019)
• M. Born and E. Wolf, Principles of Optics 7th ed., 草川徹訳,光学の原理 第7版 II,東海大学出版会, 298 (2006)
• S. Matsuyama, et al. Opt. Express, 20, 24977 (2012)

タイトルに関連する用語 (10件)： ミラー ,  X線自由電子レーザー ,  集光 ,  開発 ,  差分 ,  成膜 ,  X線ミラー ,  形状修正 ,  SPring-8 ,  性能評価