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J-GLOBAL ID：202002256453319225   整理番号：20A2115125

ホウ化水素シートへの紫外光照射が誘起する水素発生

Hydrogen Generation Induced by Ultraviolet Light Irradiation on Hydrogen Boride Sheets

著者 (3件)： 近藤剛弘 (筑波大学数理物質系物質工学域およびエネルギー物質科学研究センター) ,  近藤剛弘 (東京工業大学元素戦略センター) ,  宮内雅浩 (東京工業大学 物質理工学院)
資料名： 表面と真空  (Vacuum and Surface Science)
巻： 63  号： 7  ページ： 352-357(J-STAGE)  発行年： 2020年 
JST資料番号： G0194B  ISSN： 2433-5835  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 最近,著者らは,二ホウ化マグネシウム(MgB₂+2H⁺→Mg²⁺+2HB)中のプロトンとマグネシウムカチオンの間の剥離と完全なイオン交換により,常温常圧でホウ化水素(HB)シートが形成されることを明らかにした。そして,室温で8wt%もの水素分子(H₂)が,紫外線照射によりHBから放出されることを発見した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ホウ化物 ,  マグネシウム化合物 ,  陽子 ,  マグネシウム ,  カチオン ,  剥離 ,  イオン交換 ,  *水素化物 ,  水素 ,  二原子分子 ,  *紫外線照射 ,  *ガス放出 ,  ホウ化マグネシウム ,  水素分子 ,  *水素放出
準シソーラス用語： プロトン ,  *ホウ化水素

著者キーワード (10件)： ホウ化水素 ,  ボロファン ,  ボロフェン ,  二次元材料 ,  水素発生 ,  ホウ化水素 ,  ボロファン ,  ボロフェン ,  二次元材料 ,  水素発生

分類 (1件)： 光化学反応  (CB08020F)

引用文献 (33件)：

• 1) S. Stankovich, D.A. Dikin, G.H.B. Dommett, K.M. Kohlhaas, E.J. Zimney, E.A. Stach, R.D. Piner, S.T. Nguyen and R.S. Ruoff : Nature 442, 282 (2006).
• 2) A.K. Geim and K.S. Novoselov : Nat. Mater. 6, 183 (2007).
• 3) S.Z. Butler, S.M. Hollen, L. Cao, Y. Cui, J.A. Gupta, H.R. Gutiérrez, T.F. Heinz, S.S. Hong, J. Huang, A.F. Ismach, E. Johnston-Halperin, M. Kuno, V.V. Plashnitsa, R.D. Robinson, R.S. Ruoff, S. Salahuddin, J. Shan, L. Shi, M.G. Spencer, M. Terrones, W. Windl and J.E. Goldberger : ACS Nano 7, 2898 (2013).
• 4) Q. Tang and Z. Zhou : Prog. Mater. Sci. 58, 1244 (2013).
• 5) M. Osada and T. Sasaki : Adv. Mater. 24, 210 (2012).

タイトルに関連する用語 (5件)： ホウ化 ,  水素 ,  紫外光照射 ,  誘起 ,  水素発生