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J-GLOBAL ID：202202225318615529   整理番号：22A2728196

シリコンフォトニクスを用いた光通信素子の研究開発最新動向 3.シリコンフォトニクス技術を用いた集積フォトニクスプラットホームの構築

Silicon Photonics Platform for Large-scale Device Integration

著者 (1件)： 堀川剛 (東京工大 工学院 電気電子系)
資料名： 電子情報通信学会誌  (Journal of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers)
巻： 105  号： 11  ページ： 1299-1306  発行年： 2022年11月01日 
JST資料番号： F0019A  ISSN： 0913-5693  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： シリコンフォトニクス技術による種々の光機能を大規模光回路に集積するためには,各機能デバイスの設計・プロセス・検証を連携させ,プラットホーム技術として統合する必要がある.我々は,ArF液浸露光などの40nm世代CMOS技術,300mm径SOI,ゲルマニウムエピタキシャル成長装置,光ウェーハプロービングシステムを用いたプロセス制御,及び統合的な設計ライブラリにより,世界最高の低伝搬損導波路,波長確度の高いフィルタ素子,高速変調器・受光器等の再現性の高い集積を可能とするプラットホーム技術を確立した.(著者抄録)

シソーラス用語： *オプトエレクトロニクス ,  *光学素子 ,  *光通信 ,  技術展望 ,  消費電力 ,  研究開発 ,  光集積回路 ,  光回路 ,  *半導体プロセス ,  フィルタ ,  ライブラリ【計算機】 ,  *シリコンフォトニクス ,  フォトニクス
準シソーラス用語： *光通信素子 ,  集積光回路

分類 (3件)： 半導体集積回路  (NC03162T) ,  光通信方式・機器  (ND10000B) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (14件)：

• T. Nakamura, K. Yashiki, K. Mizutani, T. Nedachi, J. Fujikata, M. Tokushima, J. Ushida, M. Noguchi, D. Okamoto, Y. Suzuki, T. Shimizu, K. Takemura, A. Ukita, Y. Ibusuki, M. Kurihara, K. Kinoshita, T. Horikawa, H. Yamaguchi, J. Tsuchida, Y. Hagihara, and K. Kurata, ′′Fingertip-size optical module, ′′optical I/O core′′ and its application in FPGA,′′ IEICE Trans. Electron., vol. E102-C, no. 4, pp.333-339 April 2019. DOI: 10.1587/transele.2018ODI0005
• 中村隆宏,「デバイス・実装技術」,超低消費電力型光エレクトロニクス実装システム技術開発プロジェクト最終成果報告会, 東京,Feb.2022.
• T. Mogami, T. Horikawa, K. Kinoshita, Y. Hagihara, J. Ushida, M. Tokushima, J. Fujikata, S. Takahashi, T. Shimizu, A. Ukita, K. Takemura, M. Kurihara, K. Yashiki, D. Okamoto, Y. Suzuki, Y. Sobu, S.-H. Jeong Y. Tanaka, T. Nakamura, and K. Kurata, ′′1.2Tbps/cm2 enabling silicon photonics IC technology based on 40-nm generation platform,′′ J. Lightwave Technol., vol. 36, no. 20, pp. 4701-4712, Aug. 2018. DOI: 10.1109/JLT.2018.2863779
• T. Horikawa, D. Shimura, H. Okayama, S.-H. Jeong, H. Takahashi, J. Ushida, Y. Sobu, A. Shiina, M. Tokushima, K. Kinoshita, and T. Mogami, ′′A 300-mm silicon photonics platform for large-scale device integration,′′ IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron., vol. 24, no. 4, 8200415, July 2018. DOI: 10.1109/JSTQE.2018.2819893
• S. Okumura, T. Simoyama, H. Ono, M. Okuno, M. Miura, J. Fujikata, M. Noguchi, T. Mogami, T. Horikawa, Y. Tanaka, and K. Morito, ′′Observation of suppressed dark current of Ge on Si (100) using ultrathin Ge seed layer,′′ Proc. 2014 7th Int. Silicon-Germanium Technol. Device Meet., pp. 89-90, Singapore, June 2014. DOI: 10.1109/ISTDM.2014.6874701

タイトルに関連する用語 (8件)： シリコンフォトニクス ,  光通信 ,  研究 ,  開発 ,  最新動向 ,  集積フォトニクス ,  プラットホーム ,  構築