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J-GLOBAL ID：202202257242503312   整理番号：22A2503364

HfO₂基強誘電体の相転移における熱履歴

Thermal Hysteresis During Ferroelectric Transition in HfO₂-based Materials

著者 (6件)： 三村和仙 (東京工大) ,  清水荘雄 (東京工大) ,  清水荘雄 (物質・材料研究機構) ,  坂田修身 (物質・材料研究機構) ,  坂田修身 (高輝度セ) ,  舟窪浩 (東京工大)
資料名： 日本物理学会講演概要集(CD-ROM)  (日本物理学会春季大会講演概要集(CD-ROM))
巻： 77  号： 1  ページ： ROMBUNNO.16aGE21-8  発行年： 2022年03月24日 
JST資料番号： S0671C  ISSN： 2189-079X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： HfO2基材料は高い誘電率とSiとの熱力学的な整合性の高さから、SiO2代替材料として、広く用いられている材料である。2011年にこの材料において強誘電性が報告され、大きな注目を集めている。HfO2基材料における強誘電性は、準安定相であるo...【本文一部表示】

シソーラス用語： *強誘電体 ,  強誘電性 ,  酸化ハフニウム ,  誘電率 ,  温度依存性 ,  *相転移 ,  X線回折 ,  *熱履歴
準シソーラス用語： 二酸化ハフニウム

分類 (1件)： 強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B)

タイトルに関連する用語 (4件)： HfO2 ,  強誘電体 ,  相転移 ,  熱履歴