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J-GLOBAL ID：202202266415121834   整理番号：22A0262665

ReO₃構造酸フッ化物薄膜の誘電体応用可能性

ReO₃-type oxyfluoride thin films aiming for dielectric materials

著者 (5件)： 小寺正徳 (東京工大) ,  舟窪浩 (東京工大) ,  清水荘雄 (物材研) ,  田口綾子 (JFCC) ,  森分博紀 (JFCC)
資料名： 日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(CD-ROM)
巻： 33rd  ページ： ROMBUNNO.2H02  発行年： 2020年08月17日 
JST資料番号： L2240B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 酸化レニウム ,  *酸フッ化物 ,  *薄膜 ,  *誘電体 ,  *ペロブスカイト型結晶 ,  誘電率 ,  タンタル化合物 ,  ニオブ化合物 ,  バンドギャップ ,  密度汎関数法 ,  超格子 ,  結晶構造

分類 (2件)： 塩  (CD01050V) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (5件)： 酸フッ化物 ,  薄膜 ,  誘電体 ,  応用 ,  可能性