様々な基板上におけるY:HfO<sub>2</sub>エピタキシャル膜の合成と評価

前川芳輝; 平井浩司; 安岡慎之介; 岡本一輝; 清水荘雄; 舟窪浩

文献

J-GLOBAL ID：202302215577844793 整理番号：23A2513116

様々な基板上におけるY:HfO₂エピタキシャル膜の合成と評価

Growth and characterization of Y-doped HfO2 epitaxial films on various substrates

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巻： 70th ページ： ROMBUNNO.15p-A404-1 発行年： 2023年02月27日
JST資料番号： Y0054B ISSN： 2758-4704 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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抗原・抗体・補体一般 , 生体の顕微鏡観察法 , 固体プラズマ , バイオアッセイ , 固体デバイス製造技術一般

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様々な基板上におけるY:HfO2エピタキシャル膜の合成と評価

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