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J-GLOBAL ID：202402256474733089   整理番号：24A0611439

UVナノインプリントリソグラフィを用いた大面積集積フォトニクスプロセスの開発

UV Nanoimprinting process development for large-scale integrated photonics

著者 (17件)： 雨宮智宏 (東京工大) ,  岡田祥 (東京工大) ,  高橋直樹 (東京工大) ,  佐々木龍耶 (東京工大) ,  堀川剛 (東京工大) ,  渥美裕樹 (産業技術総合研) ,  小田悠貴 (イーヴィグループ) ,  原悠太 (イーヴィグループ) ,  野田真司 (イーヴィグループ) ,  山本宏 (イーヴィグループ) ,  UHRMANN Thomas (イーヴィグループ) ,  KNEIDINGER Andrea (イーヴィグループ) ,  森莉紗子 (東京応化工業) ,  藤井恭 (東京応化工業) ,  浅井隆宏 (東京応化工業) ,  塩田大 (東京応化工業) ,  西山伸彦 (東京工大)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 84th  ページ： ROMBUNNO.20p-A201-6  発行年： 2023年09月05日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 1.はじめに.ナノインプリントリソグラフィ(NIL)は、ナノスケールのスタンプを用いた押印技術であり、従来の露光法と違って露光波長に解像度が依存しないこと、大面積転写性や高スループット性などを有していることから次世代リソグラフィ技術の一つと...【本文一部表示】

シソーラス用語： エッチング ,  付着 ,  ケイ素 ,  光 ,  二酸化ケイ素 ,  露光 ,  シロキサン ,  *レジスト ,  リソグラフィー ,  導波路 ,  プラズマエッチング ,  ナノスケール ,  離型 ,  スタンプ
準シソーラス用語： *ナノインプリントリソグラフィー , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： レーダ  (ND13010H) ,  半導体レーザ  (BD04070L)

タイトルに関連する用語 (5件)： UVナノインプリントリソグラフィ ,  大面積 ,  集積フォトニクス ,  プロセス ,  開発