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J-GLOBAL ID：202502230175062341   整理番号：25A3040997

高品質HSQマスク法BiFe_0.9Co_0.1O₃ナノドットのドメイン構造評価

Domain Structure Characterization of High-Quality BiFe_0.9Co_0.1O₃ Nanodot by HSQ Mask

著者 (15件)： 中山創 (東京科大) ,  吉川浩太 (東京科大) ,  LEE Koomok (東京科大) ,  角嶋邦之 (東京科大) ,  角嶋邦之 (東京科大) ,  星井拓也 (東京科大) ,  星井拓也 (東京科大) ,  金子智 (KISTEC) ,  安井学 (KISTEC) ,  黒内正仁 (KISTEC) ,  北條元 (九大) ,  重松圭 (東京科大) ,  重松圭 (KISTEC) ,  東正樹 (東京科大) ,  東正樹 (KISTEC)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM))
巻： 86th  ページ： ROMBUNNO.9p-N201-10  発行年： 2025年 
JST資料番号： Y0054C  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： コバルト酸塩 ,  鉄化合物 ,  ビスマス化合物 ,  ナノドット ,  *ドメイン構造 ,  *強誘電性 ,  分極 ,  磁区
準シソーラス用語： 磁気ドメイン

分類 (2件)： 強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B) ,  磁区・磁化過程一般  (BM06111M)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高品質 ,  マスク ,  ナノドット ,  ドメイン ,  構造評価