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J-GLOBAL ID：202502256315692930   整理番号：25A2923133

RF窒素プラズマ照射によるβ-Ga₂O₃の窒素ドーピング

Nitrogen doping into β-Ga₂O₃ by RF Nitrogen plasma irradiations

著者 (10件)： 阿多翔大 (大阪公大 工) ,  市川龍斗 (大阪公大 工) ,  古川勝裕 (大阪公大 工) ,  相馬永 (大阪公大 工) ,  吉村武 (大阪公大 工) ,  長田貴弘 (NIMS) ,  山下良之 (NIMS) ,  小畠雅明 (原子力発電技術機構) ,  福田竜生 (原子力発電技術機構) ,  藤村紀文 (大阪公大 工)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM))
巻： 72nd  ページ： ROMBUNNO.17p-Y1311-3  発行年： 2025年 
JST資料番号： Y0054C  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： RFプラズマ ,  *窒素プラズマ ,  *プラズマ曝露 ,  *β-酸化ガリウム(III) ,  *窒素ドーピング ,  X線光電子分光法 ,  二次イオン質量分析 ,  深さプロフィル
準シソーラス用語： *プラズマ照射 ,  *β-酸化ガリウム ,  SIMS【質量分析】

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (4件)： RF ,  窒素プラズマ ,  β-Ga2O3 ,  窒素ドーピング