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J-GLOBAL ID：202602214072078723   整理番号：26A1349604

極薄CET(<1nm)High-kゲートスタックのための酸素パッシベーション界面層(O-PAS IL)の形成

Oxygen-Passivated Interfacial Layer (O-PAS IL) for Ultra-Scaled (CET < 1 nm) High-k Gate Stacks

著者 (38件)： 森田行則 (産総研 SFRC) ,  森田行則 (LSTC) ,  川那子高暢 (産総研 SFRC) ,  川那子高暢 (LSTC) ,  神岡武文 (産総研 SFRC) ,  神岡武文 (LSTC) ,  三谷祐一郎 (東京都市大) ,  三谷祐一郎 (LSTC) ,  生田目俊秀 (物質・材料研究機構) ,  生田目俊秀 (LSTC) ,  女屋崇 (物質・材料研究機構) ,  女屋崇 (LSTC) ,  深田直樹 (物質・材料研究機構) ,  深田直樹 (LSTC) ,  JEVASUWAN W. (物質・材料研究機構) ,  JEVASUWAN W. (LSTC) ,  塚越一仁 (物質・材料研究機構) ,  塚越一仁 (LSTC) ,  星井拓也 (東京科大) ,  星井拓也 (LSTC) ,  TOPRASERTPONG K. (東大) ,  TOPRASERTPONG K. (LSTC) ,  田村敦史 (東大) ,  田村敦史 (LSTC) ,  喜多浩之 (東大) ,  喜多浩之 (LSTC) ,  岡田直也 (産総研 SFRC) ,  岡田直也 (LSTC) ,  間部謙三 (産総研 SFRC) ,  間部謙三 (LSTC) ,  水林亘 (産総研 SFRC) ,  水林亘 (LSTC) ,  太田裕之 (産総研 SFRC) ,  太田裕之 (LSTC) ,  松川貴 (産総研 SFRC) ,  松川貴 (LSTC) ,  右田真司 (産総研 SFRC) ,  右田真司 (LSTC)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM))
巻： 73rd  ページ： ROMBUNNO.15a-W8E_101-6  発行年： 2026年 
JST資料番号： Y0054C  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (6件)： CET ,  ゲートスタック ,  酸素 ,  パッシベーション ,  界面層 ,  IL