文献

J-GLOBAL ID：201902254628140911   整理番号：19A2265116

X線自由電子レーザーナノ集光システムの開発(第2報)蛍光X線の強度干渉現象を利用したビーム径決定手法の実証

著者 (13件)： 中村南美 (大阪大 大学院工学研究科) ,  松山智至 (大阪大 大学院工学研究科) ,  井上陽登 (大阪大 大学院工学研究科) ,  井上伊知郎 (理研 播磨研) ,  大坂泰斗 (理研 播磨研) ,  山田純平 (理研 播磨研) ,  湯本博勝 (高輝度光科学研究セ) ,  小山貴久 (高輝度光科学研究セ) ,  大橋治彦 (高輝度光科学研究セ) ,  矢橋牧名 (高輝度光科学研究セ) ,  矢橋牧名 (理研 播磨研) ,  石川哲也 (理研 播磨研) ,  山内和人 (大阪大 大学院工学研究科)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2019  号： 秋季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.J16  発行年： 2019年08月20日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： X線自由電子レーザーは超高ピーク輝度を有しており,更なる高度利用化に向けた集光技術の発展が望まれる.極限集光を目指すにあたり,集光ビーム径の計測が不可欠である.我々は,蛍光X線の強度干渉現象を利用したビーム径決定手法を新たに考案した.本手法により計測されたビーム径は,ワイヤースキャン法および微粒子からの散乱パターンを利用したビーム診断法により計測された値と良い一致を示した.(著者抄録)

シソーラス用語： X線自由電子レーザ ,  *集光器 ,  固有X線 ,  *証明 ,  *技術 ,  *直径 ,  光パルス ,  干渉 ,  集光
準シソーラス用語： *ナノ集光システム ,  集光装置 ,  蛍光X線 ,  *ビーム径決定手法 ,  *実証 ,  超短パルス ,  極限集光

分類 (3件)： 光学器械要素とその材料  (QF05020K) ,  X線技術  (BA02060D) ,  線源,照射装置  (MC01020V)

引用文献 (9件)：

• H. Mimura, et al., Nat. Commun., 5, 3539 (2014)
• H. Yoneda, et al., Nature Communications 5, 5080 (2014)
• K. Tamasaku, et al., Nature Photonics 8, 313-316 (2014)
• H. Yoneda, et al., Nature 524, 446 (2015)
• S. Matsuyama, et al. Opt. Express, 20, 24977-24986 (2012)

タイトルに関連する用語 (9件)： X線自由電子レーザー ,  集光 ,  開発 ,  蛍光X線 ,  干渉 ,  現象 ,  ビーム径 ,  手法 ,  実証