研究者
J-GLOBAL ID:202201012636518840   更新日: 2024年05月28日

森 良弘

モリ ヨシヒロ | Mori Yoshihiro
所属機関・部署:
職名: 教授
研究分野 (2件): 経営学 ,  分析化学
研究キーワード (3件): イノベーション・マネジメント ,  技術経営 ,  標準化
競争的資金等の研究課題 (2件):
  • 2023 - 2027 技術開発組織における技術選択に関する研究-個人の意思決定に着目して-
  • 2022 - 2024 技術者の認知バイアスが技術判断に及ぼす影響に関する研究
論文 (26件):
  • Tsugufumi Matsuyama, Yudai Tanaka, Yoshihiro Mori, Kouichi Tsuji. High-accuracy total reflection X-ray fluorescence analysis for determining trace elements using substrate cleaned by ammonia-hydrogen peroxide mixture. Talanta. 2023. 265. 124808-124808
  • 森 良弘, 北 寿郎. 新技術に対する技術者の認知バイアスに関する研究. BMAジャーナル. 2021. 21. 1. 15-29
  • Hikari Takahara, Yoshihiro Mori, Harumi Shibata, Ayako Shimazaki, Mohammad B. Shabani, Motoyuki Yamagami, Norikuni Yabumoto, Kazuo Nishihagi, Yohichi Gohshi. Vapor phase treatment-total reflection X-ray fluorescence for trace elemental analysis of silicon wafer surface. Spectrochimica Acta Part B: Atomic Spectroscopy. 2013. 90. 72-82
  • Hikari Takahara, Yoshihiro Mori, Ayako Shimazaki, Yohichi Gohshi. Method and mechanism of vapor phase treatment-total reflection X-ray fluorescence for trace element analysis on silicon wafer surface. Spectrochimica Acta Part B: Atomic Spectroscopy. 2010. 65. 12. 1022-1028
  • Yoshihiro Mori, Kenichi Uemura, Hiroshi Kohno, Motoyuki Yamagami, Yoshinori Iizuka. Sweeping-TXRF: A nondestructive technique for the entire surface characterization of metal contaminations on semiconductor wafers. IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing. 2005. 18. 4. 569-573
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MISC (17件):
  • 森良弘. 研究者をたずねて 技術者の『認知バイアス』を解明しビジネスを成功に導くイノベーションマネジメント. 同志社大学 リエゾンオフィス ニューズレター LIAISON. 2023. 70. 13-14
  • 森良弘. 分析化学から経営学へ. ぶんせき. 2023. 8. 330
  • Yoshihiro Mori, Toshiro Kita. IMPACT OF COGNITIVE BIASES IN TECHNOLOGICAL DECISION-MAKING. Proceedings of 23rd CINet Conference. 2022. 371-380
  • 江場宏美, 国村伸祐, 篠田弘造, 永谷広久, 中野和彦, 保倉明子, 松林信行, 森良弘, 山本孝. 2012年X線分析関連文献総合報告. X線分析の進歩. 2013. 44. 41-72
  • 江場宏美, 篠田弘造, 高山透, 永谷広久, 中野和彦, 原田雅章, 前尾修司, 松林信行, 森良弘, 山本孝. 2011年X線分析関連文献総合報告. X線分析の進歩. 2012. 43. 1-31
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特許 (73件):
書籍 (6件):
  • シリコン結晶技術 -成長・加工・欠陥制御・評価-
    2014
  • 機器分析の事典
    朝倉書店 2005 ISBN:9784254140699
  • X-Ray Spectrometry: Recent Technological Advances
    Wiley 2004 ISBN:9780471486404
  • 超精密ウェーハ表面制御技術
    サイエンスフォーラム 2000 ISBN:4916164342
  • シリコンウェーハの洗浄と分析
    リアライズ理工センター 1998 ISBN:4898080057
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講演・口頭発表等 (18件):
  • 技術開発×ビジネス
    (「次の環境」協創コース ミニワークショップ 2024)
  • イノベーションをマネジメントする ~経営学の視点から~
    (日本分析化学会 分析イノベーション交流会 2024)
  • MBA入門講座 イノベーションマネジメント -破壊的イノベーションを起こすには-
    (同志社大学大学院ビジネス研究科 2023)
  • イノベーション創出につながるネットワークづくりへの貢献
    (京都工業会 2023)
  • MBA入門講座 イノベーションマネジメント -破壊的イノベーションを起こすには-
    (同志社大学大学院ビジネス研究科 2023)
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学歴 (4件):
  • 2015 - 2018 同志社大学 大学院ビジネス研究科 ビジネス専攻
  • 1989 - 1991 神戸大学 大学院理学研究科 化学専攻
  • 1985 - 1989 神戸大学 理学部 化学科
  • 1982 - 1985 兵庫県立八鹿高等学校
学位 (3件):
  • 博士(工学) (九州大学)
  • ビジネス修士(専門職) (同志社大学)
  • 理学修士 (神戸大学)
経歴 (10件):
  • 2022/04 - 現在 同志社大学 大学院ビジネス研究科ビジネス専攻 教授
  • 2021/09 - 現在 大阪公立大学 工学部 非常勤講師
  • 2020/04 - 現在 同志社女子大学 学芸学部メディア創造学科 嘱託講師
  • 2020/04 - 2022/03 株式会社堀場アドバンスドテクノ コーポレートオフィサー 開発本部長
  • 2017/01 - 2020/03 株式会社堀場アドバンスドテクノ 開発本部長
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委員歴 (16件):
  • 2024/06 - 現在 JIS K0148, K0160 原案作成委員会
  • 2020/11 - 現在 半導体製造装置協会(SEAJ) 人財開発専門委員会 イノベーション創出井戸端会議 コアメンバー
  • 2014/04 - 現在 JEITA STRJ WG11 Yield Enhancement 委員
  • 2014/04 - 現在 ISO/TC201/SC10 Expert
  • 2012/05 - 現在 表面化学分析技術国際標準化委員会 ISO/TC201 X線表面分析WG委員
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受賞 (4件):
  • 2007/07 - Siltronic Inventor Award 2007 "Most active inventor"
  • 2006/12 - Semiconductor Equipment and Materials Institute (SEMI) Technical Committee Award 2006 "Outstanding achievement in the advancement of SEMI International Standards"
  • 2004/09 - ISSM2004 Best Paper Award "Sweeping-TXRF: A Nondestructive Technique for the Entire-Surface Characterization of Metal Contaminations on Semiconductor Wafers"
  • 2002/09 - 日本分析化学会 奨励賞 "全反射蛍光X線分析用シリコンウェーハ標準試料の開発と応用"
所属学会 (4件):
組織学会 ,  日本ビジネスモデル学会 ,  応用物理学会 ,  日本分析化学会
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