金属(Ni,Pt)-ゲルマニドによって構成されるゲート電極における仕事関数の組成依存性

文献

J-GLOBAL ID：200902269637543700 整理番号：07A0478775

Composition Dependence of Work Function in Metal (Ni,Pt)-Germanide Gate Electrodes

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=07A0478775&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=07A0478775&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

著者 (7件)： , , , , , ,
資料名：
巻： 46 号： 4B ページ： 1865-1869 発行年： 2007年04月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

金属-酸化物-半導体(MOS)素子において,金属(Ni,Pt...

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=07A0478775&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

トランジスタ

引用文献 (23件)：

J. Kedzierski, D. Boyd, P. Ronsheim, S. Zafar, J. Newbury, J. Ott, C. Cabral Jr., M. Ieong, and W. Haensch: IEDM Tech. Dig., 2003, p. 315.
J. A. Kittl, A. Veloso, A. Lauwers, K. G. Anil, C. Demeurisse, S. Kubicek, M. Niwa, M. J. H. van Dal, O. Richard, M. A. Pawlak, M. Jurczak, C. Vrancken, T. Chiarella, S. Brus, K. Maex, and S. Biesemans: Dig. Symp. VLSI Technology, 2005, p. 72.
K. Takahashi, K. Manabe, T. Ikarashi, N. Ikarashi, T. Hase, T. Yoshihara, H. Watanabe, T. Tatsumi, and Y. Mochizuki: IEDM Tech. Dig., 2004, p. 91.
M. Kadoshima, T. Nabatame, K. Iwamoto, N. Mise, H. Ota, A. Ogawa, M. Takahashi, M. Ikeda, H. Satake, and A. Toriumi: Jpn. J. Appl. Phys.45(2006)6225.
E. Cartier, V. Narayanan, E. P. Gusev, P. Jamison, B. Linder, M. Steen, K. K. Chan, M. Frank, N. Bojarczuk, M. Copel, S. A. Cohen, S. Zafar, A. Callegari, M. Gribelyuk, M. P. Chudzik, C. Cabral Jr., R. Carruthers, C. D’Emic, J. Newbury, D. Lacey, S. Guha, and R. Jammy: Dig. Symp. VLSI Technology, 2004, p. 44.

, , , ,

前のページに戻る