研究者
J-GLOBAL ID：200901034390327757   更新日: 2026年03月04日

小林 信一

コバヤシ シンイチ | Kobayashi Shinichi
所属機関・部署：
東京工芸大学 工学部工学科

東京工芸大学 工学部工学科 について


職名： 教授
ホームページURL (1件)： http://www.t-kougei.ac.jp/engineering/index.html
研究分野 (3件)： 電気電子材料工学 ,  結晶工学 ,  応用物性
研究キーワード (4件)： 半導体の基礎物性 ,  半導体プラズマプロセス ,  Physics of Semiconductors ,  Plasma Processing of Semiconductors
競争的資金等の研究課題 (5件)：
  • 2000 - 2002 高清浄ECRプラズマCVDによる高機能性ナノクリスタルGe膜の作製
  • 1998 - 1999 次世代超LSI用材料Si/Ge薄膜の成長に関する研究
  • 1997 - 1998 次世代超LSI材料SiGeを拡散源としたSi中への不純物拡散の研究
  • 高品質アモルファス及び微結晶Ge膜の成膜と膜質評価
  • Deposition and Characterization of High-quality Amorphous and microcrystalline Ge Films
論文 (26件)：
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MISC (4件)：
Works (2件)：
  • CVD法によるSiGe系薄膜の形成とその応用
    1995 -
  • Deposition of SiGe films using CVD and its application
    1995 -
学歴 (3件)：
  • - 2003 東北大学 工学研究科 電子工学専攻
  • - 1990 東北大学 工学研究科 電子工学専攻
  • - 1988 東北大学 工学部 電気系
学位 (1件)：
  • 博士(工学) (東北大学)
所属学会 (2件)：
Materials Research Society ,  応用物理学会
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