研究者
J-GLOBAL ID：200901062820754895   更新日: 2020年05月09日

友景 肇

トモカゲ ハジメ | Tomokage Hajime
論文 (15件)：
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講演・口頭発表等 (5件)：
  • Cu intercalation under an graphene grown on SiC(0001) surface
    (12TH INTERNATIONAL WORKSHOP ON BEAM INJECTION ASSESSMENT OF MICROSTRUCTURES IN SEMICONDUCTORS - BIAMS 12 2014)
  • SiC上エピタキシャルグラフェンに対する銅のインターカレーション
    (日本物理学会 第69回年次大会 2014)
  • Cu intercalation to graphene sheets grown on SiC(0001)
    (15th International Conference on Solid Surfaces ICSS-15 2013)
  • SiC基板上に成長したグラフェンへの銅蒸着
    (平成25年度九州表面・真空研究会2013(兼第18回九州薄膜表面研究会) 2013)
  • SiC(0001)表面上に成長したグラフェン膜へのCu蒸着2
    (日本物理学会 第68回年次大会 2013)
学歴 (2件)：
  • - 1982 九州大学 工学研究科 電気工学
  • - 1977 九州大学 工学部 電気工学
学位 (1件)：
  • 工学博士
経歴 (1件)：
  • 福岡大学 工学部電子情報工学科 教授
所属学会 (4件)：
Materials Research Society ,  American Institute of Physics ,  電子情報通信学会 ,  応用物理学会
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