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J-GLOBAL ID：200902129357867732   整理番号：00A0519939

空格子点機構と格子間機構の対拡散模型に基づくSi中のP拡散の有効拡散係数と制御過程

Effective Diffusion Coefficient and Controlling Process of P Diffusion in Si Based on the Pair Diffusion Models of Vacancy and Interstitial Mechanisms.

著者 (4件)： YOSHIDA M (Yoshida Semiconductor Lab., Fukuoka, JPN) ,  MOROOKA M (Fukuoka Inst. Technol., Fukuoka, JPN) ,  TAKAHASHI M (Fukuoka Inst. Technol., Fukuoka, JPN) ,  TOMOKAGE H (Fukuoka Univ., Fukuoka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 39  号： 5A  ページ： 2483-2491  発行年： 2000年05月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Si中のP拡散において格子間原子(I)機構が支配的と仮定する...

シソーラス用語： 固体内拡散 ,...

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分類 (1件)： 固体中の拡散一般  (BL06021L)

引用文献 (30件)：

• 1) M. Yoshida, E. Arai, H. Nakamura and Y. Terunuma: J. Appl. Phys. 45 (1974) 1498.
• 2) S. Matsumoto, M. Yoshida and T. Niimi: Jpn. J. Appl. Phys. 13 (1974) 1899.
• 3) S. Matsumoto and T. Niimi: Jpn. J. Appl. Phys. 15 (1976) 2077.
• 4) M. Yoshida: Jpn. J. Appl. Phys. 18 (1979) 479.
• 5) M. Yoshida: Jpn. J. Appl. Phys. 22 (1983) 1404.

タイトルに関連する用語 (7件)： 空格子点 ,  格子 ,  拡散模型 ,  Si ,  拡散 ,  有効拡散係数 ,  過程