研究者
J-GLOBAL ID：200901082359931330   更新日: 2024年11月01日

王谷 洋平

オウタニ ヨウヘイ | Otani Yohei
所属機関・部署：
公立諏訪東京理科大学 公立諏訪東京理科大学 工学部 機械電気工学科

公立諏訪東京理科大学 公立諏訪東京理科大学 工学部 機械電気工学科 について


職名： 准教授
研究分野 (1件)： 電気電子材料工学
研究キーワード (1件)： 薄膜作製
競争的資金等の研究課題 (9件)：
  • 2023 - 2026 high-k/Ge構造における界面物理構造のプロセス温度依存の解明
  • 2022 - 2023 high-k/Ge構造における界面物理構造のプロセス依存の解明
  • 2021 - 2022 high-k/Ge構造における界面物理構造のプロセス依存の解明
  • 2020 - 2021 high-k/Ge構造における界面物理構造のプロセス依存の解明
  • 2017 - 2020 各種high-k/Ge構造において成膜後プロセスがもたらす効果の検討
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論文 (40件)：
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MISC (8件)：
  • Hiroshi Okamoto, Daichi Yamada, Hidefumi Narita, Yohei Otani, Chiaya Yamamoto, Junji Yamanaka, Tetsuya Sato, Yukio Fukuda. Effect of postdeposition treatments on the electrical properties of Al2O3/GeO2 gate stack grown on Ge substrate by radical-enhanced atomic layer deposition. Extended abstract of 9th International Workshop on New group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration". 2016. I-04-7-I-04-8
  • Takuro Iwasaki, Toshiro Ono, Yohei Otani, Yukio Fukuda, Hiroshi Okamoto. Interface State Density Evaluation of p-Type and n-Type Ge/GeNx Structures by Conductance Technique. ELECTRONICS AND COMMUNICATIONS IN JAPAN. 2015. 98. 6. 8-15
  • 簗池昴生, 横平知也, 山田大地, 王谷洋平, 柳ビョンハク, 関渓太, 佐藤哲也, 福田幸夫. RE-ALD形成Al2O3/GeO2/p-Geの電気的特性に及ぼす熱処理と酸素ラジカル照射の効果. 応用物理学会第20回ゲートスタック研究会特別報告書. 2015. 193-196
  • 石崎博基, 梁池昂生, 関渓太, 滝澤蓮, 花田毅広, 王谷洋平, 山本千綾, 山中淳二, 佐藤哲也, 福田幸夫. マイクロ波リモートプラズマ-ALD法によるSi基板上のHfO/HfSixOy薄膜の作製および評価. 第18回ゲートスタック研究会 特別研究会研究報告書. 2013. 123-126
  • 梁池昂生, 関渓太, 滝澤蓮, 花田毅広, 石崎博基, 王谷洋平, 佐藤哲也, 福田幸夫. ALD法によりSi(100)基板上に成膜したHfO2薄膜のマイクロ波リモート酸素プラズマ照射による特性改善. 第18回ゲートスタック研究会 特別研究会研究報告書. 2013. 143-146
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書籍 (2件)：
  • 無機材料の表面処理・改質技術と将来展望-金属,セラミックス,ガラス-
    シーエムシー出版 2007 ISBN:9784882316978
  • エレクトロニクス用 セラミックスの製造プロセスと応用技術《大全集》
    技術情報協会 2007
講演・口頭発表等 (82件)：
  • Fabrication and I-V characteristic evaluation of Pt/TiO2/Ge capacitors
    (15th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics 2024)
  • Ar/O2直流放電プラズマ照射によるSiとGe基板の極低温酸化
    (第85回応用物理学会秋季学術講演会 2024)
  • Ge基板上に極低温で堆積した薄膜の特性
    (東北大学 電気通信研究所 -情報通信共同研究拠点- 令和5年度共同プロジェクト研究発表会 2024)
  • Fabrication of Al2O3 film on Ge substrate at 190K and its electrical properties
    (14th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics 2023)
  • p型Ge基板上に低温堆積したAl2O3薄膜の電気特性
    (第70回応用物理学会春季学術講演会 2023)
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学歴 (2件)：
  • - 2006 奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 物質創成科学
  • - 2001 京都大学 工学部 工業化学科
学位 (1件)：
  • 博士(工学) (奈良先端科学技術大学院大学)
経歴 (4件)：
  • 2008 - 2012 諏訪東京理科大学システム工学部 講師
  • 2012 - 諏訪東京理科大学システム工学部 准教授
  • 2007 - 2008 諏訪東京理科大学システム工学部 助教
  • 2006 - 2007 諏訪東京理科大学システム工学部 助手
委員歴 (6件)：
  • 2017/06 - 現在 長野県 下諏訪町 まち・ひと・しごと創生有識者会議委員
  • 2013/04 - 現在 茅野市教育委員会 茅野市公民館運営審議会委員
  • 2018/04 - 2022/03 公益社団法人 応用物理学会 代議員
  • 2020/10 - 2021/03 長野県 下諏訪町 下諏訪町総合計画審議会委員
  • 2017/05 - 2020/05 公益社団法人 日本セラミックス協会 協会誌編集委員
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受賞 (1件)：
  • 2006/09/19 - 日本セラミックス協会第19回秋季シンポジウム 「誘電材料の新展開-ナノ構造制御と新材料設計-」 シンポジウムポスター奨励賞
所属学会 (4件)：
一般社団法人 日本MRS ,  公益社団法人 日本セラミックス協会 ,  公益社団法人 化学工学会 ,  公益社団法人 応用物理学会
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