抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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ECRプラズマ法によって作製したp型並びにn型GeN
x/Ge構造における界面準位密度のコンダクタンス法による評価について報告した。筆者らは,これまで,ECRプラズマ法によって界面準位密度の低いGeN
x/Ge構造が得られること,および室温下におけるGe-MIS構造の界面準位密度も反転領域の特性解析によって評価できることを報告してきた。本稿では,ECRプラズマ法によって作製したp型並びにn型GeN
x/Ge構造について,界面準位密度を低温におけるコンダクタンス法,および室温における反転領域のコンダクタンス評価手法によって評価し,界面準位密度の熱処理温度依存性を調査した。GeN
x/Ge構造の界面特性の評価に成功し,一連の評価から得られた知見を提示した。